当然，此时的绝大部分记者们并不知道如果想要生产90纳米和65纳米芯片。
其实不一定需要采用第5代浸没式光刻机技术，直接研发采用第四代的ArF干式光刻机技术也行。
因为第四代的ArF干式光刻机的光源波长是193nm，这193nm光源波长理论上最高是能生产65纳米芯片的。
但做事不能考
《大国科技从山寨开始》第277章EUV光刻机与DUV光刻机！
正在手打中，请稍等片刻，
内容更新后，请重新刷新页面，即可获取最新更新！
章节因文字错误正在手打中!，正在修复中，请稍后查看!
本章完
本站网站:.kuaishuku
本章未完，点击下一页继续阅读